作業項目 | 作業内容 | 実施者 | 備 考 | |||
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応募者 | 審査 委員 |
主催者 | ||||
1 | エントリー | コンテストWebサイトより,お申込ください. | ○ | コンテストWebサイトの「エントリー」から,必要な情報を入力してください. | ||
2 | パスワード配布 | 事務局よりパスワードを発行. | ○ | メールでご連絡します. | ||
3 | 設計データ取得 | パスワードにより,コンテストWebサイトから設計データをダウンロード. | ○ | 「応募者専用ページ」から,デザインルール,プロセスパラメータを入手できます. | ||
4 | 正式申込 | 「申込書兼試作レポート」に記入の上,提出してください. | ○ | ・コンテストWebサイトの「応募者専用ページ」の「申込書の提出はこちら」から,アップロードしてください. ・「申込書兼試作レポート」の様式は,「募集要項」のページにあります. ・この時点でご記入いただくのは,様式2-3までです. |
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5 | 予備審査 (書面審査) |
審査委員による書類審査 | ○ | 「申込書兼試作レポート」の内容で,審査員委員会において書類審査を行い,本選参加者を選抜します. | ||
6 | 結果通知 | 書類審査結果をご本人にメール通知. | ○ | 審査内容に関するお問い合わせは,お受けできません. | ||
7 | マスク設計 | レイアウトCADによるマスクレイアウト設計. ※データ出力は,GDS形式で,お願いします. |
○ | 共同研究開発センターのCADを利用される方は,利用予約が必要です.(平日9:00~17:30) | ||
8 | マスク設計 データ提出 |
マスク設計データのアップロード. | ○ | コンテストWebサイトの「応募者専用ページ」の「マスクデータの提出はこちら」から,アップロードしてください. | ||
9 | マスク製作 | フォトマスク製作 | ○ | 面付け,マスク描画,現像,エッチングなどの全ての作業は,主催者が行います. | ||
10 | ウェハプロセス (12日間) |
・各自1枚のシリコンウェハを最初から最後まで自分で処理. ・製造装置による一括処理以外の手作業は,全て参加者自身が処理. ・顕微鏡によるパターン検査. |
○ | ○ | ・プロセスフロー(processflow.pdf)を参照してください. ※2017年9月7日(木)と9月8日(金)の参加は必須です. ※スタッフが十分に指導しますので,プロセス経験は問いません. |
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11 | パッケージング |
専門業者による組立. | ○ | ・簡単な測定作業まで行っていただき,パッケージングは外部の専門業者に委託します. | ||
12 | チップ送付 | 組立完了,郵送. | ○ | 測定用の基板を1セット添えて送付します. | ||
13 | 特性評価 および レポート作成 |
・測定環境構築. ・電気特性評価. ・「申込書兼試作レポート」作成. |
○ | ・評価ボードは自作していただきます (評価ボード.pdf参照). ・レポートは指定された様式で作成していただきます. (申込書 兼 試作レポート.doc参照). |
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14 | レポート提出 | 「申込書兼試作レポート」を,提出してください. | ○ | ・コンテストWebサイトの「応募者専用ページ」の「試作レポートの提出はこちら」から,アップロードしてください. ・「申込書兼試作レポート」は,申込時点のものを基に作成してください. ・この時点では,該当がない部分を除き,全てのページにご記入ください. |
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15 | 最終審査 | 審査委員会による審査. | ○ | 提出していただいたレポートを基に,審査委員会において審査し,最優秀賞と優秀賞を選定します. | ||
16 | 賞状送付 | 賞状と楯の送付. | ○ | 受賞者には賞状(全員分)および楯(グループに1枚)をお送りします. | ||
17 | 紹介資料送付 | HP掲載用の紹介資料送付. | ○ | 受賞チームは,ホームページ掲載のため,以下の資料をお送りいただきます. ・受賞作の紹介資料 ・写真(賞状と楯を持ったチームメンバーの写真) |